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金相磨抛机 |
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MP—2SE金相试样磨抛机
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发布时间:2022-05-12 00:00:00 阅读:395次 |
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台式双盘磨抛机,适用于对金相试样进行粗磨、精磨和抛光操作。
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产品介绍
台式双盘磨抛机,适用于对金相试样进行粗磨、精磨和抛光操作。本机采用微处理器控制系统,工作盘直径 φ250mm,磨抛盘转速为∶50-1000r/min (无级变速),150r/min、300r/min、60Or/min、800r/min(四级定速),并且可以自由改变旋转方向。本机采用最先进的触摸屏显示,具有定时功能,正转反转,中英文转换功能,并装有抛光用水装置。
技术规格

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